Hydra-sonic-10

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Sicher und zuverlässig

Vollständig geschlossener Arbeitsbereich mit transparenter Abdeckung zum Schutz vor Verunreinigungen der Umgebungsluft.
Integrierte DI-Wasserproduktion (Umkehrosmosemembran, Mischbettharze, Aktivkohlefilter)
Vollautomatischer Reinigungs- und Trocknungsprozess mit einstellbarem Lift-Out-System wird mit einer speziellen Heizung kombiniert (Be- und Entladen erfolgt manuell)

Umweltfreundlich

Geringer Verbrauch von Reinigungsmitteln und Wasser
Geringer Leitungswasserverbrauch

Einfache und flexible Handhabung

Kompaktes Plug-and-Wash-System
Reinraumtaugliche Installation

Industrial semiconductor processing machine with control panel and integrated wafer bath system.

Semiconductor wafers held in a metal rack being processed inside a chemical bath container.

Multiple semiconductor wafers held in a rack being lowered into a chemical bath within a processing station.

Close-up of semiconductor wafers aligned in a metal rack during chemical bath processing.

Technische Daten

Produktivität:	576 Brillengläser pro 8-Stunden-Schicht
Abmessungen (wxdxh):	1500 x 800 x 1300 mm / 59 x 32 x 51 Zoll
Gewicht:	340 kg / 750 lb

Alle technischen Daten können ohne vorherige Ankündigung geändert werden. Prüfen Sie die Details mit Satisloh.

Dokumente

Hydra-sonic Ultraschallreinigung (Broschüre)

pdf - 363 KB

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