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灵活的镀膜机，适用于精密光学的先进薄膜工艺

1200-PO-duo是Satisloh功能最全面的薄膜镀膜机，专为实现各类光学材料和膜层设计的最高镀膜精度而制造。其灵活的组件配置选项使生产商能够根据工艺需求和优先级（无论是镀膜复杂度、热敏度还是产量）精确定制系统。 

先进的电子束枪结合多功能热蒸发源，可实现各种精密复杂的多层镀膜，且具有出色的均匀性和可重复性。集成的工艺控制、光学监测和行星式加热器确保了稳定的工艺条件和一致的镀膜质量。各种基材夹持器配置（包括行星式和伞具式），广泛支持各种基材和镀膜工艺，实现极高的工艺灵活性。

  • 兼容性广泛的灵活的平台，适用于玻璃、塑料和晶体光学元件，可对多种产品类型进行镀膜 
  • 先进的双电子束与大功率热源技术，在支持复杂的多膜层沉积的同时，有效缩短了周期并简化了材料更换
  • 在15英寸大型行星式基架上实现高镀膜均匀性（偏差<1%），且不受材料或沉积速率的影响
  • 集成的光学或石英晶体监测系统，配合自动膜层控制，实现卓越的厚度精度和重复性
  • 节能设计和智能加热器布局在保持可靠基板温度控制的同时，最大限度地降低了功耗
  • 支持自动化且与MES集成的软件，可提升现代制造环境中的设备运行时间、可追溯性及生产透明度

通过互动式虚拟导览，探索 1200‑PO‑duo

 

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亮点

先进的双电子束技术

双电子束配置可同时用于多种高折射率和低折射率材质，支持复杂的膜层设计，同时将停机时间降至最低。智能挡板同步功能可防止交叉污染，并优化膜层过渡，从而实现更快、更洁净的工艺流程。

单口袋3CK电子束枪：

  • 专为需要稳定、连续蒸发的低折射率材料而优化
  • 旋转坩埚 
  • 350毫升口袋容量

多口袋3CK电子束枪：

  • 适用于高折射率材料及频繁更换材料的情况
  • 可快速在氧化物与非氧化物之间切换

  • 多种配置：

    - 8口袋，最大容量28毫升
    - 4口袋，最大容量60毫升

基于光学监测的高级工艺控制 

该集成光学监测系统覆盖300至2400 nm的波长范围，并具备透射率和反射率两种监测模式，可确保膜层的精确性。自动测试玻璃处理与无缝集成软件，即使面对要求极高的镀膜规格，也能提供可靠的结果。工艺配方可在光学监测与晶体监测之间无缝切换，使用户能够在单个工艺序列中兼顾速度与精度

等离子辅助镀膜技术，实现卓越的膜层质量

集成冷等离子体离子辅助技术在实现卓越的膜层致密化的同时，对温度敏感型基材极为温和。极低且受控的基材加热特性，使其特别适用于聚合物及其他敏感基材。 

  • 5kW射频等离子体源
  • 标准供气为氩气和氧气，也可选配使用任何其他气体
  • TiO2在520nm波长下的折射率可达2.46

预清洗过程中等离子体引起的温度升高低于2°C，最大功率下温度升高低于50°C

节能的行星式加热系统

独特的行星式加热器，位于均匀性挡板后方，能够快速、精确地将基材加热至工作温度，同时显著降低能耗。该设计避免了对无关组件的不必要加热，从而提高了基材上的热均匀性，同时最大限度地减少了温度偏差，缩短了升温时间，并为高要求的镀膜工艺（如致密氧化膜层、离子辅助膜层或温度敏感的多膜层沉积）提供了可靠的加热环境。

  • 该系统可在15分钟内将基材加热至300°C，峰值功耗仅为6.4kW。在低温（60°C）加热循环期间，平均功耗低至0.5kW。 

透射光谱

（示例）

  • 内部测试显示，其均匀性在中心波长（CWL）的±1.0%范围内。 

  • 采用窄带通滤波器在2个行星支架上做2轮测试，每个行星支架各取3个样本。 

  • 采用光学监测或晶振片进行膜层终止检测。各膜层可单独设置检测方式。 

技术规格

材质：塑料、玻璃和晶体光学元件
尺寸：2171 x 3145 x 2440 毫米 / 86 x 124 x 96 英寸
行星系统容量：5个行星支架 - 每个直径15英寸
伞具容量：
  • 168个孔位，基材直径70毫米（带镜托环） 
  • 标准配置：大型伞具，含6个不锈钢伞片 
  • 可视要求定制伞片（材质、孔位数量、无镜托环设计）

所有技术数据如有变更，恕不另行通知。请向Satisloh核实细节。

文件

1200-PO-duo – Thin-film Coating (Brochure)
pdf - 755 KB