Le 1200-PO-duo est la plateforme de revêtement en couches minces la plus polyvalente de Satisloh, conçue pour offrir une précision de revêtement optimale sur une large gamme de matériaux optiques et de configurations de revêtement. Ses options de configuration flexibles permettent aux fabricants d'adapter le système avec précision à leurs besoins et priorités en matière d'application, qu'il s'agisse de la complexité du revêtement, de la sensibilité thermique ou du débit.
Des canons à faisceau électronique avancés, associés à des sources d'évaporation thermique polyvalentes, permettent de réaliser une large gamme de revêtements multicouches sophistiqués et complexes, avec une excellente uniformité et une excellente reproductibilité. Le contrôle intégré du processus, la surveillance optique et un chauffage planétaire garantissent des conditions de processus stables et une qualité de revêtement constante. Diverses configurations de porte-substrats, y compris des options de dôme planétaire et sectoriel, offrent une grande flexibilité de processus en prenant en charge un large éventail de substrats et de procédés de revêtement.
La configuration à double faisceau d'électrons permet l'utilisation simultanée de plusieurs matériaux à indice élevé et faible, ce qui facilite la réalisation de revêtements complexes avec un temps d'arrêt minimal. La synchronisation intelligente des obturateurs empêche la contamination croisée et optimise les transitions entre les couches pour des processus plus rapides et plus propres.
Pistolet EB 3CK à poche unique :
Pistolet EB 3CK à poches multiples :
Avec des longueurs d'onde comprises entre 300 et 2 400 nm et des modes de surveillance de la transmittance et de la réflectance, le système de surveillance optique intégré garantit une terminaison précise des couches. La manipulation automatisée des verres d'essai et l'intégration transparente du logiciel fournissent des résultats fiables, même pour les spécifications de revêtement les plus exigeantes. Les recettes peuvent basculer de manière transparente entre la surveillance optique et la surveillance cristalline, permettant ainsi aux utilisateurs de combiner vitesse et précision au sein d'une même séquence de processus
L'assistance ionique intégrée avec plasma froid assure une excellente densification du revêtement tout en préservant les substrats sensibles à la température. Le chauffage extrêmement faible et bien contrôlé du substrat en fait la solution idéale pour les substrats polymères et autres substrats sensibles.
Augmentation de température due au plasma inférieure à 2 °C pendant le pré-nettoyage, inférieure à 50 °C à puissance maximale
Un chauffage planétaire placé de manière unique derrière le masque d'uniformité amène les substrats à la température de fonctionnement rapidement et avec précision, tout en maintenant une consommation d'énergie remarquablement faible. Il évite le chauffage inutile des composants non concernés, améliorant ainsi l'homogénéité thermique sur les substrats, et minimise également les écarts de température, réduit les temps de montée en température et garantit des conditions thermiques fiables pour les procédés de revêtement exigeants tels que les couches d'oxyde denses, les revêtements assistés par ions ou les empilements multicouches sensibles à la température.
Des essais internes montrent une uniformité comprise entre ± 1,0 % de la longueur d'onde centrale (CWL).
Test réalisé à l'aide d'un filtre passe-bande étroit sur 2 cycles et 2 planètes, avec 3 échantillons pour chaque planète.
Réalisé à l'aide d'une surveillance optique ou d'un cristal de quartz pour la terminaison de couche. Le choix peut être défini pour chaque couche individuellement.
| Matériaux : | plastique, verre et optiques cristallines |
| Dimensions : | 2171 x 3145 x 2440 mm / 86 x 124 x 96 pouces |
| Capacité planétaire : | 5 planètes - 15 pouces de diamètre chacune |
| Capacité du dôme sectoriel : |
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