联系表

大批量镜片加工的最高效率

CDS 2000将清洁和加硬镀分开，避免潮湿，确保达到ISO6环境标准。该设备配有两个机械臂，加工速度更快；并配有进出传送带，可最大限度地减少污染，从而确保镜片加工的一致性和可持续性。远程支持简化了维护工作，还可通过各种附加组件增强功能。

  • 两个区域，分别用于清洁和加硬镀膜，避免潮湿，针对较小风量的空调进行了优化，确保镀膜腔体内达到 ISO6环境标准
  • 效率最高，两个机械臂装载镜片支架，缩短周期，提高产能
  • 自动、独立的进/出传送带可减少加工区域的污染
  • 自动补充清洗剂、加硬液和酒精，确保不间断加工，且容易维护
  • 可定制机器（可根据客户需求提供选配）
  • 专为重负荷使用而设计（停机时间非常少）
  • 优化水和能源消耗，实现生态高效的加工
  • 直观的人机界面，容易使用
  • 与服务团队远程连接，使诊断更方便快捷（可升级）

 

Satisloh SCL CDS 2000 Hard Coating machine Side view
Satisloh SCL CDS 2000 Hard Coating machine Front view
Satisloh SCL CDS 2000 Hard Coating machine Dipping process

技术规格

产能： 336到384个镜片/小时
周期： ~5 分钟
镜片 / 周期： 28至32
镜片材质： 直径40到80毫米的所有材质
尺寸（宽x深x高）： 9860 x 1850 x 2700 毫米 / 388 x 73 x 106 英寸
重量： 2800 公斤 / 6173 磅
机器方向： 从左到右或从右到左

所有技术数据如有变更，恕不另行通知。请与Satisloh核实详细信息。

文件

CDS 2000 Automated High-volume Hard Coating Machine (Brochure)
pdf - 346 KB

相关产品

Industrial semiconductor processing chamber with control panel and enclosed design.

1200-DLX-2 镀膜机

高容量真空镀膜机，用于减反和镜面镀膜，可加工多达245个镜片/批次。

了解更多
Large semiconductor processing system with enclosed chamber and side control panel featuring display screen.

1500-X 镀膜机

高产量真空镀膜机，专为透明减反镀膜和太阳镜片而设计，可加工多达305个镜片/批次。

了解更多
Semiconductor wafers suspended by metal holders above a processing bath in a cleanroom environment.

加硬镀膜工艺

热浸入式或UV旋喷加硬镀膜技术使镜片更耐磨且使用寿命更长。

了解更多